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可根據客戶對水質的具體要求，采用反滲透、EDI、拋光混床等
超純水生產工藝的不同組合，生產出既經濟實用，又能滿足客戶要求的超純水。
萊特萊德擁有多項超純水專用膜核心技術，針對高精密機械、硅片、科研儀器等產品清洗用水制備，為用戶提供優質的超純水!
超純水精度可達美標E1.3
出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準；
電子工業部電子級水質技術標準、高純水水質試行標準；
美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準；
國內外大規模集成電路水質標準。
萊特萊德公司為客戶提供高性價比的超純水處理設備；
廣泛應用于電子、化工、有機玻璃、電鍍、超音波清洗等領域。
CUPW核心超純水專用膜元件；
CIP在線清洗消毒系統；
GMP標準認證；
POD水質在線檢測系統；
PPH、PVDF潔凈管道設計工程師。
EDI超純水設備為何能獲得高度認可
為什么說高品質的芯片生產離不開超純水系統？
硅晶圓生產應用的超純水設備優在何處？
簡析：超純水系統在電子芯片制造中應用效果和優勢
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