半導體在集成電路、通信系統、光伏發電等領域應用廣泛,大部分的電子產品制造都與半導體息息相關,承載了重要的功能。無論是從科技發展還是經濟發展來看,半導體創造的價值都不可估量,是衡量國家科學技術發展能力和發展潛力的重要因素之一。
半導體良率的提高不僅可以降低半導體產業的生產成本,還能顯著提高產品的品質和安全性能。超純水和半導體良率之間有密切的關聯性,它能用于清洗半導體材料以保證生產質量。超純水中基本不含有任何有機物、微生物、金屬離子、細菌等物質,用于清洗半導體能確保其不受雜質污染。
超純水設備是生產超純水的專用產品,采用了“反滲透+EDI+拋光混床”的技術,生產出的超純水水質能達到18MΩ*cm(25℃)。反滲透是指超純水設備中應用了反滲透膜技術,能實現對納米級物質的分離去除,因而能有效分離出超純水中應該被去除的金屬離子、細菌、和顆粒雜質等成分。同時,由于反滲透膜擁有強大的抗污染能力,因而在生產過程中,它能有效降低超純水設備的故障率,減少清洗次數,延長設備的使用壽命。
EDI技術能對超純水進行深度脫鹽,能實現帶電荷運行加速離子遷移,提高了超純水設備的脫鹽率。并且,EDI模塊運行無污染物質產出,不會產生酸堿廢液,環保性能很好。拋光混床模塊的進一步處理,則有效確保了超純水設備的出水水質。
總而言之,超純水設備具有生產連續穩定、無污染、能耗低、工藝流程短、操作簡單等優勢,其還采用了智能程序,可以靈活進行操作,性價比很高。
轉載時請注明文章來源“萊特萊德”,否則視為侵權,感謝配合。
編輯:新奇 技術:加菲
企業網址www.mbrf.com.cn
咨詢熱線021 3100 9988
電話熱線010 5165 9999
版權所有:萊特萊德·水處理 遼ICP備12004418號-76 遼公網安備21012402000201號