“雙循環”背景下 超純水設備提供行業發展“芯”動力

　　根據《中共中央關于制定國民經濟和社會發展第十四個五年規劃和二〇三五年遠景目標的建議》，中國應加快建設以國內大循環為主體、國內外雙循環相互促進的新發展模式，促進國家治理體系和治理能力現代化，實現經濟穩定、社會穩定和諧，為全面建設社會主義現代化國家開辟良好的開端。

　　芯片生產所需的硅片在使用前必須徹底清洗。一塊8英寸的硅片可以生產大約100塊芯片，需要2000加侖的超純水才能達到所需的純度。芯片設備和材料國際公司估計，2007年生產了1730萬英寸的硅片，消耗的超純水足以填滿50萬個奧運游泳池，這也從另一個方向反映出了芯片行業對于超純水的需求量巨大。

　　萊特萊德超純水設備采用反滲透工藝，或是采用反滲透后面再經過離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床來制取超純水，確保出水水質符合行業標準，滿足芯片行業的水需求，為行業提供動力。

　　從發展前景來看，芯片產業的現狀不言而喻。在“雙循環”的背景下，國內集成電路產業的快速發展并不能完全滿足日益增長的市場需求。未來，隨著優惠政策和生產技術的改進，原材料和設備的自給自足率將繼續提高。與此同時，全球芯片產業將像國內轉移一樣促進產業鏈的發展。我國集成電路產業前景廣闊，市場規模不斷擴大。