半導體生產為何需要應用超純水設備？

　　超純水是一種將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的高純度水，一般電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)的我們才稱之為超純水。對于半導體行業而言，超純水是確保其高效生產的基石之一，所以我們才說半導體生產離不開超純水設備。

　　在半導體生產環節中，清洗步驟占據了整個生產總步驟的三分之一,可以說整個清洗過程離不開超純水設備。應用專業的超純水設備即可產出高品質的超純水，如今半導體行業常用的超純水設備核心工藝為反滲透工藝、EDI系統、混床工藝，這樣生產出的超純水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優勢。

　　半導體行業應用的超純水設備核心采用的是曲線微導力技術，應用膜法技術，在拋光段采用進口拋光樹脂以及自主研發的除硼專用樹脂，在保證系統高回收率的同時，有效提高系統的產水水質。設備中應用的EDI系統是一種將離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術，無需酸堿再生，是一種新型的脫鹽方式，該系統的應用幫助超純水設備降低了運行成本。該設備可連續穩定地制備超純水，不會因為樹脂再生而停止運行，設備結構設計比較嚴密，所以其占地面積非常小，可以為企業節省大量空間，屬于實用型超純水設備。

　　綜上所述，半導體行業的發展離不開超純水設備的應用，該設備深受半導體行業的青睞，在電子芯片、集成電路及封裝、晶圓、科研、航空航天等領域中應用良多。

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　　編輯：柒柒   技術：米