應用專業的超純水設備即可產出超純水，如今半導體行業常用的就是應用反滲透工藝加EDI系統相結合的超純水設備來制取超純水。該設備出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸...

超純水設備采用了獨有的靶向離子交換系統，能夠針對超純水中難處理的硼及其他離子實行定向去除，有力保證了出水硼離子能夠穩定≤2ppt。...

超純水設備的EDI處理裝置廢水產出量少，不會對環境造成污染，具有非常高的環境效益和經濟效益。精混床經過技術升級后，無需任何多余操作即可穩定運行，出水水質可以滿足芯片生產用水的相關標準，降低企業...

超純水設備多是采用預處理、反滲透技術、EDI模塊等工藝，將水中的導電介質幾乎完全去除，又可以將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低的程度，其中EDI模塊發揮了重要的作用。...

應用光伏超純水設備制備超純水工藝，則結合了膜技術，采用反滲透、EDI裝置和拋光混床模塊化設計工藝來制備超純水，其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優勢。...

超純水設備具有高效低能、運行成本低，水資源利用率高、運行的時間長等優點。...