超純水系統采用反滲透技術+EDI+拋光混床系統制備超純水。它是一種純物理過程的制備技術。其出水電阻可達18mΩ·cm(25℃),具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質穩定、無污染物、成本低等...
超純水是指電阻率為18MΩ·cm(25℃)的水,除水分子外幾乎沒有雜質,完全滿足芯片生產用水需求。...
萊特萊德經常采用反滲透工藝,或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產超純水,出水電導率可達18.2MΩ,滿足芯片行業用水需求。...
電子晶圓行業超純水設備現階段正從晶圓的基本水平起,執行維護晶圓純凈度的崗位職責,不斷平穩地制取達到晶圓生產制造需用的超純水系統,產水量電導率可達18MΩ·CM(25℃)。...
EDI超純水設備用以生產制造純水,不用再造化工品,運作低成本。EDI系統自動化程度高,可以連續工作。出水量水體優良平穩,出水量電阻低≥15mΩ·cm。...
萊特萊德超純水設備選用膜分離技術加工工藝,可以確保出水水質平穩,自動式的運作方法可以節約人力、控制成本,出水水質平穩實現了國家飲用水的規范。...
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