根據有關研究報告顯示,半導體清洗設備的市場規模有望由2020年的74億美元增長到2025年的121億美元,復合增長率達10.3%,遠遠超過半導體設備的復合增長率??梢?,未來清洗設備還有很大的增長空間。隨著超純水需求量的增加,微電子產業的快速發展,將大大促進超純水工業的發展。
超純水的品質與半導體的良品率直接相關,在電子元件的生產過程中,不管是清洗用水、溶液、漿料,都要采用超純水。集成電路的生產工藝是蝕刻和清洗反復進行,清洗是半導體加工過程中的一個重要環節,其目的就是清洗可能存在于原材料或半成品中的雜質。由于半導體元件體積小、精度高,對超純水水質的技術要求也越來越高,在超純水的生產過程中,只要微粒子、電阻率、TOC以及氣泡中一個指標出現略微差異,都會使半導體元件的合格率下降。
超純水是將水中導電介質幾乎完全除去,又能使水中不離解的膠體物質、氣體和有機物去除到非常低程度的水。其電阻率超過18MΩ·cm,接近18.3MΩ·cm極限值。萊特萊德采用獨特的靶向離子交換系統,對超純水中難于處理的硼和其它離子進行定向去除,保證出水硼離子能夠穩定≤5ppt。
萊特萊德為用戶提供優質的超純水,更好的提高了芯片的良品率。萊特萊德超純水系統廣泛應用于電子芯片、集成電路及封裝、二極管、三極管、傳感器、電子級氫氟酸、電子級硫酸、電子級雙氧水、電子級氨水、高精度線路板、光伏、TFT玻璃基板、晶圓、石英管、超白玻璃、科研、航空航天、高精尖儀表、珠寶加工等領域。
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