芯片是一個扁平的硅片,上面嵌入了集成電路,甚至包括晶體管。硅晶片上產生了微小開關的圖案,通過嵌入材料,形成相互連接形狀的深而完整的網格。眾所周知,芯片生產是難度很大的,今天我們來討論一下芯片在生產制造的過程中的重要影響因素。
芯片生產的過程中有一個非常重要的步驟,需要利用純水沖洗,而這個純水的來源就是凈化而來的,因此需要消耗大量的水資源。而越是工藝制程好的芯片,所需消耗的水資源就越多。2nm的芯片工廠,每天所要消耗的水資源將達到9.8萬噸。
對于這個沖洗的環節,我們不得不提到它的用水標準。普通的自來水在芯片沖洗過程中應用是絕對不可以的,我們需要用到的是超純水。超純水是指電阻率達到18 MΩ*cm(25℃)的水。這種水中除了水分子外,幾乎沒有什么雜質,更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物,當然也沒有人體所需的礦物質微量元素,也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。
這樣的超純水幾乎不導電,不會影響電子產品的性能,同時水中幾乎不含金屬離子,不會對復雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。用超純水生產芯片可以提高芯片的良品率。
由于芯片生產需要用到大量的超純水,超純水的制備又成為了關鍵問題。超純水設備能夠連續穩定地制備高質量的超純水,不會因樹脂再生而停止運行。設備內部還安裝有反滲透預脫鹽技術,再次從根本上確保了設備的出水質量。同時,EDI處理裝置廢水產量少,不會污染環境,具有很高的環境效益和經濟效益,具有廣闊的發展前景。
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