芯片清洗少不了超純水設備

　　10月18日賢集網消息，隨著芯片技術的升級和迭代，光子芯片有望成為新一代信息領域的底層技術支撐。硅光學技術是后摩爾時代的核心技術之一。它是半導體技術和光學技術的結合，它對通信行業的影響將是顛覆性的。光子芯片被認為是曲線超車的方向。下面小編還要帶大家了解一個芯片生產的重要環節——芯片清洗。

　　超純水是通過蒸餾、去離子、反滲透技術或其他適當的超臨界精細技術生產的水，用于開發超純材料(半導體組件材料、納米陶瓷材料等)。其電阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*厘米(25℃)的極限值。簡單地說，它是水，除了氧和氫之外幾乎所有的原子。芯片清洗需要超純水。萊特萊德超純水設備采用反滲透作為預處理，結合電去離子(EDI)裝置和拋光混床工藝。出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準和我國電子工業部電子水質技術標準。

　　萊特萊德超純水設備可在線檢測和顯示超純水電阻率，模塊化集成設計，安裝方便，維護簡單，占地面積小，外觀設計美觀。優質樹脂用于增加交換容量，延長耗材的使用壽命。采用LCD數字顯示系統。整套設備具有較強的自動化性能。當水被切斷或水壓不足時，可自動切斷電源并停機。同時給出報警提示和多重保護，確保設備穩定運行。電源指示、系統自檢指示、泵啟動指示、RO自動沖洗指示、缺水保護指示、缺水量報警指示、純水備用指示均采用動態模式。設備自動化不需要人工維護，設備具有水故障或壓力不穩定時自動停機的功能。確保設備能夠定期自動清潔和維護，以延長設備的使用壽命。外觀可由不銹鋼、玻璃纖維增強塑料、碳鋼等材料制成，無毒、防污染、耐磨。