硅晶圓是一種半導體材料,在經過照相制版,研磨,拋光,切片等一系列工序,將多晶硅溶解拉出單晶硅晶棒,然后切割成一片一片薄薄的晶圓。這種硅晶圓在人工智能、物聯網和生物醫學等領域都是多有應用。近年來,我國越來越重視硅晶圓的生產,帶動了其上下游產業的發展,超純水設備的應用也在其列。
硅晶圓生產與超純水設備的關系?在硅晶圓研磨、拋光、切片這些工序中少不了其身影,超純水設備主要是為其送去高品質清洗超純水,方便其清洗表面的雜質。那么這樣的超純水是如何制備出來的?
該設備采用預處理+反滲透+EDI+混床的組合形式來制備超純水。該設備具有高效低能、運行成本低,水資源利用率高、設備占地較小、維修量小,運行時間長等優點。設備中應用的EDI模塊在運行過程中不需要添加任何化學品,不僅減少了化學品運輸、排放處理問題,同時降低了系統運行費用。EDI模塊不會產生酸堿廢液,因此不需要酸堿中和處理。EDI進水為二級反滲透產水,水質較好。即使經EDI系統脫鹽后,EDI濃水水質仍優于一級反滲透產水,可回流至一級反滲透產水箱。
并且該超純水設備不僅產水水質符合GB T 11446.1-2013 電子級水或ASTM D5127-13標準,而且還滿足了各種工業用水的不同需求,應用范圍非常廣泛,可適用于電子、半導體、線路板、集成電路、精密機械的生產和清洗。設備能夠連續穩定地制備品質優良的超純水,其占地非常小,可以為企業節省很多空間,在符合硅晶圓生產用水水質標準的同時可以使水資源的利用率達到≥80%,有效提升了水資源利用率。
隨著半導體行業不斷的發展,我國對于硅晶圓需求只多不少,側面帶動了超純水設備的市場需求,未來發展形勢也是一片大好!
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