我國的半導體行業近年來發展迅速,在政策支持、市場需求和技術進步等多重因素驅動下,取得了顯著成果。在半導體設計、制造、封裝測試等領域,我國研發人員均取得了不同程度的技術積累和突破,特別是在芯片設計方面,已有一批自主研發的產品初步具備了國際競爭力,在市場中深受重視。盡管如此,我國半導體行業在某些關鍵領域與國際先進水平仍有一定差距,尤其是高端芯片制造設備和工藝、部分核心原材料等方面。
在芯片制造和生產中,經常會使用到超純水設備來為芯片生產提高生產質量服務。超純水設備是專用于生產高純度超純水生產的專業技術產品,它的出水水質好,電阻率可達18MΩ*cm(25℃)。超純水的水質成分單一,除了水分子之外,基本不含有任何有機物、金屬離子、細菌和微生物,是進行芯片清洗的理想用水,需要經過該設備“反滲透+EDI+拋光混床”的技術處理才能生產出來。
超純水設備采用的這套組合工藝,具有出水連續、水質穩定、能耗低、無污染、自動化等優勢。反滲透膜常用于進行溶液中各種離子物質的過濾,不依賴化學反應,可以充分保證水滲透效果。EDI技術能實現帶電荷運行,使進水時的脫鹽效果得到強化,并且不產生酸堿廢液,具有優良的環保性能。超純水設備通過利用反滲透膜實現超純水中的雜質分離去除,并通過EDI技術實現超純水高質量脫鹽,采用拋光混床技術保障出水水質安全可靠。
隨著5G、人工智能、物聯網等新興產業的崛起,國內市場對半導體產品的需求持續增長。整體來看,我國半導體行業正處在快速發展的上升通道中,前景廣闊,潛力巨大,這意味著超純水設備的應用前景依舊廣闊,投資價值高。
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