超純水的獲得并非易事，它依賴于一系列精密的過濾和凈化技術。通過采用EDI(電去離子)、反滲透膜技術以及拋光混床技術的集成系統，確保了超純水的高品質與穩定性。...

超純水，定義為電阻率超過18 MΩ*cm，幾乎不含有任何雜質的水，是半導體制造中最為嚴苛的用水標準。...

超純水設備通過精密的反滲透、EDI以及拋光混床技術，實現了對水中離子、有機物、顆粒物等雜質的深度去除，確保了供給芯片制造的超純水具有極高的純度。...

超純水設備生產超純水具有出水連續穩定、能耗低、無污染、自動化強等優勢。它采用了“反滲透+EDI+拋光混床”的技術設計，嚴格執行超純水生產標準，出水質量穩定，能達到18MΩ*cm(25℃)。...

EDI超純水設備采用了“雙級反滲透+EDI”的結合工藝，出水水質電阻率可達16MΩ*cm(25℃)。它結合了膜分離技術，通過利用反滲透膜對離子類物質的強大過濾能力，可以充分去除超純水中含有的金屬離子、礦...

超純水設備采用的這套組合工藝，具有出水連續、水質穩定、能耗低、無污染、自動化等優勢。...